【聚焦】下游市场快速发展推动原子层沉积设备国产化发展

2022-05-30 16:08

原子层沉积设备的设计制造涉及化学、物理、工程等多门学科的跨界综合运用，ALD技术是一种特殊的真空薄膜沉积方法，具有较高的技术壁垒。

薄膜沉积指的是在基底上沉积特定材料形成薄膜，使之具有光学、电学等方面的特殊性能，按工艺原理的不同可分为物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）和原子层沉积（ALD）设备，按设备形态的不同可分为批量式（管式）和空间型（板式）两种技术路线。

原子层沉积设备是一种重要的薄膜沉积设备，由于ALD技术的表面化学反应具有自限性，因此拥有优异的三维共形性、大面积成膜的均匀性和精确的膜厚控制等特点，广泛适用于不同环境下的薄膜沉积，在光伏、半导体、柔性电子等新型显示、MEMS、催化及光学器件等诸多高精尖领域均拥有良好的产业化前景。

近年来，我国原子层沉积设备下游行业发展快速，推动了原子层沉积设备市场快速发展。

光伏领域，我国光伏产业凭借国家政策的大力支持与人力资源、成本优势，发展极为迅速。截至2020年底，我国光伏发电装机量达253GW，同比增长48．2％，连续6年位居全球首位；2020年新增光伏发电装机48．2GW，增幅达60．1％，连续8年位居世界第一。同时，自2010年以来，中国一直是全球最大的光伏设备市场。2020年，我国光伏设备产业规模超过280亿元。

半导体领域，我国处于已成为全球最重要的半导体应用和消费市场之一，正处于新一代智能手机、物联网、人工智能、5G通信等行业快速崛起的进程中，2020年中国集成电路产业销售额为8，848亿元人民币，较2019年增长17％，在2020年受疫情影响的情况下，中国集成电路产业销售额仍稳步提升。

新型显示领域，我国目前主流应用的显示技术为LCD和OLED，随着产业持续升级，从中长期看，新型显示技术如柔性电子、Mini／Micro LED市场规模将快速提升。

原子层沉积设备的设计制造涉及化学、物理、工程等多门学科的跨界综合运用，ALD技术是一种特殊的真空薄膜沉积方法，具有较高的技术壁垒。因此行业对企业的技术实力、资金实力和团队实力要求较高，早期我国原子层沉积设备主要被国外厂商垄断。近年来，随着本土企业不断加强研发和投资力度，本土厂商日益崛起。

新思界产业研究中心发布的《2022－2026年中国原子层沉积（ALD）设备行业市场行情监测及未来发展前景研究报告》显示，在半导体领域，原子层沉积设备市场仍主要被国外企业占据，主要企业包括东京电子（TEL）、先晶半导体（ASM）、泛林半导体（Lam）、应用材料（AMAT）、日本国际电气（KE）等，本土企业较少，主要有北方华创、拓荆科技、中微公司、微导纳米等。

光伏领域，国内厂商相对较多，国外企业主要有Meyer Burger（梅耶博格）、Centrotherm（商先创）、韩国NCD等，国内企业主要有无锡松煜、理想晶延、捷佳伟创、北方华创、红太阳、Centrotherm（商先创）、微导纳米等。

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